【擴大差距】台積電第二季營收增長20% 受晶片需求推動
在盡力滿足汽車和其他行業對晶片的需求之際,台積電季度營收增長20%。截至6月季度的營收為3721億台幣,6月營收為1485億元台幣,較上年同期增長23%。「在產能吃緊下,台積電有更好的定價能力能抵消巨額資本支出造成的利潤率壓力。同時,台積電在EUV的生產力突破應會擴大與同行的技術差距,」花旗分析師Roland Shu和Grant Chi表示。
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同時也有1部Youtube影片,追蹤數超過3萬的網紅StockFeel 股感知識庫,也在其Youtube影片中提到,投資台積電也了解一下台積電的技術護城河在哪裡吧!奈米製程裡用到的EUV技術,極紫外光是什麼呢?雖然三星、Intel英特爾也有EUV光刻機/曝光機,但是最終能夠駕馭這個技術並成功量產的還是 2330 台積電。 #台積電 #EUV #7奈米 #台積電新聞 #台積電股價 EUV的成果是2330台積電股...
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護國神山台積電自從上周四在盤中股價創下679元天價以後,已經連續三天下跌,未再創新高。主要因素在於外資逢高調節以及英特爾(Intel)委外代工政策不如市場原先預期,不過台積電的上下游供應鏈卻是漲多跌少,持續強勁,尤其是跟”極紫外光(EUV)製程”相關的廠商都備受矚目,其中生產EUV光罩盒的家登,更是看好今年持續成長的力道,早早做好準備。另外SMEI最新公告的12月北美半導體設備出貨數字也相當亮眼。
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台積電euv 在 StockFeel 股感知識庫 Youtube 的最佳解答
投資台積電也了解一下台積電的技術護城河在哪裡吧!奈米製程裡用到的EUV技術,極紫外光是什麼呢?雖然三星、Intel英特爾也有EUV光刻機/曝光機,但是最終能夠駕馭這個技術並成功量產的還是 2330 台積電。
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EUV的成果是2330台積電股價可以攀升的原因之一。為什麼呢?因為臺積電在這個製程領先才能在7奈米、5奈米上領先對手三星、Intel,讓訂單持續湧入。臺積電在防塵技術上的突破,就算是一顆奈米級的灰塵也會因此影響半導體廠的生產良率,而EUV光刻機對於防塵的要求又比過去採用DUV光刻機時更高,因此在三星及Intel都還卡在防塵處理這關時,台 積 電 成功改良了光罩防塵技術,就因此讓TSMC成為全球首間導入EUV技術並且達成量產的廠商,在7奈米的訂單上大幅超越死敵三星。
極紫外光大家可以理解為一種波長較短的紫外光,lithography最早是石版印刷的意思,現在也被用來稱呼為光刻技術,所以把他們兩者合起來就是“利用極紫外光來進行雕刻”的意思,那要雕什麼呢?要雕晶圓。
延伸閱讀:
台積電如何在財務數據打趴中芯國際
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挑戰晶圓代工霸主(I)─台積電VS聯電
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資料參考:
《一文看懂光刻機》
《晶圓代工爭霸戰:半導體知識(前傳) 》
《拿走英特爾的皇冠、超車三星,台積電贏在一顆奈米級灰塵 》
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台積電拚5奈米關鍵技術!影片直擊極紫外光EUV微影技術是怎麼運作的https://www.bnext.com.tw/article/57392/asml-euv-tsmc-how-to-operation
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原文標題:
台積EUV產能 下半年爆發
原文連結:
https://ctee.com.tw/news/tech/478807.html
發布時間:
工商時報 涂志豪 2021.06.24
原文內容:
隨著蘋果A15應用處理器及M1X/M2電腦處理器、聯發科天璣2000系列5G手機晶片、超微Zen 4架構電腦及伺服器處理器等新款晶片,下半年開始陸續採用支援極紫外光(EUV)技術的5奈米量產,台積電預期5奈米2021年產能將較2020年增加逾二倍,2021年EUV光罩護膜(Pellicle)產能是2019年的20倍,亦即台積電EUV產能將在下半年進入大爆發周期循環。
台積電5奈米及3奈米新建置產能將在明、後兩年逐季放量投片,採購EUV曝光機毫不手軟。法人看好EUV設備及材料供應鏈強勁需求,包括極紫外光光罩盒(EUV Pod)供應商家登,設備模組及零組件代工廠帆宣及公準、EUV曝光機用真空吸盤供應商意德士等EUV概念股營運將續旺三年。
台積電近年來積極擴大資本支出擴充先進製程產能,今年資本支出上看300億美元,九成將用於7奈米及5奈米等先進製程產能擴建,以及興建3奈米新晶圓廠等。台積電預期16奈米及更先進製程產能,在2018~2021年的年複合成長率(CAGR)將超過30%。
而在7奈米產能建置部份,台積電預期2021年產能將是2018年的四倍以上。5奈米已進入量產,Fab 18第四期亦將建置5奈米及4奈米產能,台積電預期未來3年5奈米產能將出現大幅成長,2021年5奈米產能將是2020年的二倍以上,而5奈米及4奈米2023年總產能將會達到2020年的四倍以上。
台積電於日前召開的技術論壇中指出,以EUV曝光機的累計裝機數量來看,到2020年已占全球總機台數量的50%,2020年為止採用台積電EUV技術生產的晶圓,占累計EUV曝光晶圓數的65%,已有愈來愈多的經驗累積且走過學習曲線。而隨著製程推進至5奈米,每片晶圓採用EUV光罩層大幅拉升,台積電預估2021年EUV光罩護膜產能將是2019年的20倍。
而根據艾司摩爾(ASML)統計,自2017年推出可支援量產的NXE: 3400B曝光機後,至2020年底為止,NXE: 3400x系列EUV曝光機累計出貨數達85台,累計EUV曝光晶圓數則高達2,600萬片。隨著台積電Fab 18廠第五期至第八期的3奈米產能在未來2~3年逐步完成建置並進入量產,除了再擴大採購EUV曝光機,EUV曝光晶圓數亦將呈現等比級數成長,坐穩全球擁有最大EUV產能的半導體廠寶座。
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台積電預期未來3年5奈米產能將出現大幅成長,2021年5奈米產能將是2020年的二倍以上,而5奈米及4奈米2023年總產能將會達到2020年的四倍以上。
台積電的股價,下半年隨著先進製程產能開出,應該也要爆發了吧?
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